Следует напомнить нашим читателям, что раньше ученым из Сингапура и Германии уже удавалось создать технологии выращивания монокристаллических графеновых пленок и графеновых лент на поверхности кремния. Но, к сожалению, разработанные ими технологии являются сложными и дорогостоящими, что не позволяет рассматривать их в качестве кандидатов на технологии широкомасштабного производства высококачественного графена.
Южнокорейским ученым удалось преодолеть массу производственных ограничений процесса, в котором используется технология химического осаждения углерода из паровой фазы (chemical vapor deposition, CVD), технологии, используемой для выращивания графеновой пленки на поверхности кремниевой подложки, покрытой слоем германия. Однако, в новой технологии слой германия покрыт еще одним слоем из золота, что позволило избежать разрушительного воздействия процесса химического травления для отделения графена от поверхности подложки. Приложение небольшого внешнего давления к структуре кремний-германий-золото позволяет очень легко отделить от основания верхний графеновый слой чисто механическим путем.
Проведенные дополнительные исследования продемонстрировали, что при таком методе выращивания и дополнительной обработки графен не теряет ни одного из своих уникальных свойств. Поэтому разработанная компанией Samsung технология как нельзя лучше подходит для внедрения графена в цифровые электронные приборы, где предъявляются очень высокие требования к качеству исходных материалов. Одной из потенциальных областей применения новой технологии компания Samsung считает производство гибкой и эластичной электроники, где графен во многом выигрывает у других материалов, в том числе и у углеродных нанотрубок.